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日本dip coater膜厚計AFW-100W

訪問次數(shù):1535

更新日期:2025-05-02

簡要描述:

日本dip coater膜厚計AFW-100W
推薦使用反射光譜膜厚計用于膜厚測量應用,例如硬涂層。

日本dip coater膜厚計AFW-100W
類型數(shù)字式測量范圍1

日本dip coater膜厚計AFW-100W

使用反射光譜膜厚計用于膜厚測量應用,例如硬涂層。

[機理] 當
樣品受到光照射時,它會根據(jù)膜厚顯示出*的光譜。薄膜表面反射的光與穿過薄膜并在基板表面反射的光相互干擾。當光的相位匹配時,強度增加,而當光相移時,強度降低。反射計是一種通過分析該光譜來測量薄膜厚度的方法。

[優(yōu)點] -
與 SEM 和觸針式輪廓儀不同,無需接觸即可進行測量。
- 與橢偏儀相比,便宜且易于使用。

將來也可以安裝在量產(chǎn)設備中。

日本dip coater膜厚計AFW-100W

模型AFW-100W
對于一般膜厚
設備配置單元主體、測量臺、2 分支光纖 (1.5m)、PC
測量波長范圍380-1050nm
膜厚測量范圍100nm~1μm(曲線擬合法)
1 μm 至 60 μm (FFT)
測量再現(xiàn)性0.2%-1%(視膠片質(zhì)量而定)
測量光斑直徑約7mm
光源12V-50W鹵素燈
測量理論曲線擬合法/FFT法
外形尺寸 (mm)測量臺:W150 x D150 x H115
機身:W230 x D230 x H135
大約重量5.5kg * 不包括 PC
公用事業(yè)AC100V 50 / 60Hz
轟天猛將鹵素燈


顯微分光膜厚儀

通過使用顯微鏡,可以測量具有過去無法測量的不規(guī)則性的電子元件和曲面透鏡。

它測量相對于透鏡曲率的微小區(qū)域并抑制散射光以進行測量。 它可以針對晶片圖案和電子元件的不均勻性測量微小區(qū)域,抑制散射光并實現(xiàn)測量。
姓名顯微分光膜厚儀
設備配置顯微鏡、單元主體、光纖 (1m)、PC
顯微鏡奧林巴斯金相顯微鏡
測量波長范圍380-700nm
膜厚測量范圍50nm-1.5μm (C/F)
1.5 μm 至 50 μm (FFT)
測量再現(xiàn)性0.2%-1%(視膠片質(zhì)量而定)
測量光斑直徑Φ6 μm 至 Φ120 μm
光源12V-100W鹵素燈
測量理論曲線擬合法/FFT法
外形尺寸 (mm)顯微鏡:W317.5 x D602 x H480
機身:W230 x D230 x H135
大約重量25kg * 不包括 PC
公用事業(yè)AC100V 50 / 60Hz
轟天猛將鹵素燈


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